日本製鋼所「技報76号」

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技 術 論 文（16）基板反転および基板昇降機構を搭載したフォトニクスデバイス用 ECR スパッタ装置の開発（6）　田中こずえ 他 : “φ 300 mm 基板対応固体ソースプラズマ成膜装置の開発 ” , 日本製鋼所技報 , No. 69（2018） , pp. 82-87（7）　K. Wakita and S. Matsuo: “Small Surface Damage Facet Coating on InGaAsP/InP Laser by ECR Plasma Deposition” , Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 23 （1984） No. 8A, pp. L556-L558（8）　Y.J. Kim, R. Tateno, T. Ikura, K. Matsuda, H. Kawai, M. Suzuki, and K. Goto: “Electron Cyclotron Resonance （ECR） Spattered Antireflection Coatings on Laser Facets for Optical Memory Applications” , Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 37 （1988） No. 4S, pp. 2201-2202（9）　 寅丸雅光 他 : “ECR-CVD 技術の開発 ” , 日本製鋼所技報 , No. 74（2023） , pp. 66-72（10）　T. Tsuchizawa, Y. Jin, and S. Matsuo: “Kinetic-energy measurement of a neutral stream extracted from Ar electron cyclotron resonance plasma” , Appl. Phys. Lett. Vol. 69 （1996） No. 2, pp. 149-151（11）　廣野滋 他 : “電子磁気共鳴（ECR）プラズマの SiCキャップアニール膜への応用 ” , 三井造船技報 , No. 204 （2011-10） , pp. 19-24（12）　天沢敬生 他 : “固体ソース電子磁気共鳴（ECR）プラズマを用いた LED 用インジウムスズ酸化膜（ITO）成膜装置 ” , 三井造船技報 , No. 203（2011） , pp. 50-57（13）　H. Nishimura, M. Kiuchi and S. Matsuo: "Processing Uniformity Improvement by Magnetic Field Distribution Control in Electron Cyclotron Resonance Plasma Chamber", Jpn. J. Appl. Phys. Vol. 32 （1993） No. 1S, pp. 322-326（14）　吉田国雄 他 : “高出力レーザ用薄膜の最近の進歩 ” , レーザー研究 Vol. 16 （1988） No. 1 , pp. 3-13